[지디넷코리아]삼성전자가 네덜란드 반도체 노광장비 기업 ASML과 손잡고 차세대 12인치 포토마스크 개발에 착수한다. 2028년까지 업계 최초로 첨단 메모리 공정에 차세대 노광장비 '하이 NA EUV(극자외선)'를 도입하기로 했다.