삼성전자가 네덜란드 노광설비 기업 ASML과 차세대 반도체 기술 확보에 나선다.
양사는 8일 기존 6인치 포토마스크를 12인치로 키우는 공동 개발에 참여하고, 2028년에는 업계 최초로 차세대 D램 생산에 차세대 노광 설비인 '하이(High) NA EUV(극자외선)' 장비를 도입한다고 발표했다.