차세대 반도체를 더 미세하게 만드는 핵심 기술인 하이 NA(Numerical Aperture·고개구율) 극자외선(EUV) 노광 기술이 연구개발(R&D)을 넘어 실제 반도체 양산 공정으로 확대되고 있다.
인텔 파운드리와 ASML은 8일(현지시간) 미국 캘리포