2차원 반도체 원자층을 완벽히 보호하면서도 저전압 구동 성능을 최대 260배까지 끌어올린 혁신적인 도핑 공정 기술이 개발됐다. 한국연구재단은 최성율·김용훈·강기범 한국과학기술원(KAIST) 교수 공동연구팀이 초박막 이중 보호층을 활용해 이황화몰리브덴(MoS2) 2차원 반도체를 보호하면서 필요한 영역에 선택적으로 고농도 전자 도핑할 수 있는 기술을…