Development of Manufacturing Technology for High-Purity TBAF3H2O Powder for HBM Semiconductor Deboning Process
중소기업기술혁신개발(R&D) · ★중소기업기술혁신개발사업(중소기업유망기술개발)
2026년
2420033084
중소벤처기업부
중소기업기술정보진흥원
주식회사 동양케미칼
안성모
4명
2026.07.01 ~ 2026.12.31
2026.07.01 ~ 2028.06.30
1.2억원
1.6억원
개발연구
중소기업
대전광역시 대덕구
전기/전자 > 반도체 소자·회로 > 반도체 재료
본 과제의 최종 연구목표는 HBM 반도체 디본딩 공정에 적용 가능한 고순도 TBAF·3H₂O 분말의 제조기술을 개발하고, 안정적인 양산체계를 구축하는 것임. 이를 위해 정제, 재결정화, 탈수 및 저온 기류건조, 진공 동결건조로 구성된 통합 공정기술을 확보하고, 연간 8ton 규모의 생산이 가능한 양산 기술을 확립하는 것을 핵심 목표로 함우선 기술적 측면에서...
... 구축하고 공정 통합 및 최적화를 수행. 이온 제거 공정의 성능을 고도화하고, 냉각 결정화 공정의 온도, 진공도, 입자 농도 등 주요 변수에 대한 최적 운전 조건을 확립. 또한 건조기 타입 및 시스템 구성에 따른 건조 특성을 분석하여 생산성과 품질을 동시에 만족하는 저온 건조 기술을 확정할 계획임. 공정 제어 기술을 확보하고 에너지 효율 개선 및 친환경 공정 설계를 반영하여 양산 적용 ...
본 연구개발을 통해 확보되는 고순도 TBAF·3H₂O 분말 양산기술은 HBM 반도체 디본딩 공정에 적용되는 핵심 소재로서 상용화 및 다양한 산업 분야로의 확장을 목표함. 우선 사업화 전략으로는 국내 반도체 제조사 및 후공정 기업과의 협력을 통해 Pilot 라인 테스트를 수행하고, 디본딩 공정에서의 잔류물 제거 성능 및 웨이퍼 손상 최소화 효과를 데이터로 입...