Study on high-selectivity etching process equipment technology utilizing dielectric barrier discharge
개인기초연구(과기정통부)(R&D) · 우수연구-핵심연구(기본연구B)
2026년
2710114611
과학기술정보통신부
한국연구재단
한국기술교육대학교
권오형
2명
2026.09.01 ~ 2027.08.31
2026.09.01 ~ 2031.08.31
6,619만원
6,619만원
기초연구
대학
충청남도 천안시
전기/전자 > 반도체장비 > 에칭장비
* 유전체 장벽 방전 기판을 이용한 고 선택비 식각 공정 장비 개발 - 압력 10 Torr 이상에서 안정적 플라즈마 구동 기술 확보 - 타겟 물질 대 마스크 식각 선택비 50 대 1 이상 달성 - 기판 위치 별 플라즈마 ON/OFF를 통한 식각 균일도 제어 - 라디칼 밀도 극대화를 위한 기판 구조 및 배치 최적화 - 라디칼 밀도 예측을 위...
... 분포 변화 분석② 2 년차 : 유전체 장벽 방전 기판 제작 및 식각 공정 장비 HW 개발 - 기판의 탈부착 가능, 기판과 웨이퍼 간 높이, 온도, 전압, 압력, 유량 제어가 가능한 시스템 HW 개발 - 시뮬레이션을 통해 도출된 구조 후보군 활용 유전체 장벽 방전 기판 제작③ 3 년차 : 유전체 장벽 방전 기판을 이용한 식각 공정 평가 - 타겟 및 마스크 물질로 이뤄진 ...
1) 연구과제의 활용방안*본 과제에서 도출된 유전체 방전 기판이 장착된 고 선택비 식각 장비 개발에 필요한 기초 연구 결과를 국내 반도체 장비 기업에게 기술이전하여 차세대 3D DRAM, CFET 등 차세대 반도체 제조용 식각 장비의 국산화에 기여* 또한, 향후 3D DRAM, CFET 등 차세대 반도체 제조에 필요한 위치 별 라디칼 제어 기술을 개발하기 ...