Development of technology for measuring transmittance/reflection of EUV for Compact & Low power consumption
창업성장기술개발(R&D) · 창업성장기술개발사업(디딤돌)
2026년
2420033991
중소벤처기업부
중소기업기술정보진흥원
주식회사 월드빔솔루션
박규창
7명
2026.07.01 ~ 2026.12.31
2026.07.01 ~ 2027.12.31
6,650만원
8,875만원
기초연구
중소기업
서울특별시 동대문구
환경 > 측정분석장비/장치 > 측정분석 장비기술
연구개발 최종 목표나노 냉전자빔(C-beam) 원천 기술을 기반으로 차세대 반도체 공정의 핵심 부품인 거울(Mirror), 펠리클(Pellicle), 필터(Filter)의 광학적 특성을 정밀하게 평가할 수 있는 'Compact & Low-power EUV 투과·반사 및 Flare 측정 시스템'의 상용화 기술 완성을 최종 목표로 함. 기존에 보유한 광원의 성...
... 확보할 예정임. 핵심 지점 데이터 추출(Point-sampling) 기법을 통해 10초 이내에 부품 성능을 판독하는 고속 스크리닝 기능을 완성하고자 함. 4. 복합 분석 알고리즘 및 운영 소프트웨어 최적화 계획측정된 T(투과), R(반사), F(플레어) 값의 비율을 분석하여 표면 오염과 내부층 결함을 측정하는 신호 검증 알고리즘을 고도화할 계획임. 단일 조사(Single-shot) 시 ...
연구개발성과의 활용방안 및 기대효과1. 사업화 및 제품화 활용 계획본 과제를 통해 확보된 나노 냉전자원(C-beam) 기술을 기존 광원 시스템과 통합하여, 반도체 EUV 소재 및 부품의 실질적인 성능 평가가 가능한 상용화 제품을 개발할 계획임. 개발된 광원과 측정용 챔버 기술을 결합하여 통합 시스템화하며, 시료의 정밀 위치 제어가 가능한 이동형 스테이지를 ...