Development of highly etching single wafer type wet cleaning equipment for removing semiconductor sacrificial film to reduce chemical usage by more than 50%
소재부품기술개발(R&D) · 소재부품패키지형
2026년
2410020155
산업통상부
한국산업기술기획평가원
(주)제우스
이승훈
2명
2026.01.01 ~ 2026.12.31
2023.07.01 ~ 2026.12.31
2,000만원
3,565만원
개발연구
중견기업
경기도 화성시
인문학 > 기타 인문학 > 기타 지역종교(아프리카, 오세아니아 등)
...원)]ㅇ Chemical 재사용(Recycle)을 통한 사용량 50% 이상 저감 CSB(Chemical Supply Box) 개발 : 인산(H3PO4)을 다량으로 사용하는 세정공정에서 나오는 폐액을 정제하여, 재순환 및 재사용할 수 있는 인산 기반 폐수 정제 플랫폼 및 이에 해당하는 미립자 계수 센서 모듈, 필터 모듈, 농도계 모듈 및 보상 제어 소프트웨어
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□ 연구개발성과의 활용방안 o 희생막 제거용 습식 세정 관련 핵심공정 및 장비기술 확보 o 지적재산권 확보를 통한 기술 차별성 강화 및 시장경쟁력 확보ㅇ 인산 재활용 시스템의 국산화ㅇ 폐수처리비용 절감으로 반도체 가격 경쟁력 강화ㅇ 재활용 공정을 통해 환경오염 저감ㅇ 자원 재순환을 통해 도시광산화 및 자원안보 실현ㅇ Recycle CSB 신뢰성 확보를 위...